近期，第九届中国国际进口博览会于2023年11月5日至10日在上海举办，期间展出了一系列前沿科技成果。上海微电子装备集团（SMEE）展出了其自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机模型SSC800与SSB800，标志着我国在前道光刻装备自主化进程中取得的显著阶段性成就。
首先，本次展出的光刻机模型采用了透明剖视设计，直观展示了整机的光学光路与内部机电系统的布局。这一设计不仅增强了展示的可视性，也证明了国产光刻装备在结构设计与集成方面的进步。此外，该设备平台兼容I-line和KrF两种主流技术路线，体现了国产光刻装备在技术适配性与多样性上的优势。其核心组件包括高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统及高精度对准调平传感系统，均实现了自主可控，保证了以及相应的工艺适配能力与产线的运行可靠性。
其次，当前国产前道干式光刻机的成像性能已达到国际同类领先产品的水平，特别是在套刻精度与生产效率方面正稳步追赶国际标杆。市售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，均基于SMEE自主研发的双工件台平台，搭载国产自主制造的大NA物镜，其关键曝光成像指标对标国际行业标准，SSC800性能已跻身行业领先水平。 球友会
此外，基于全栈自主可控的技术基础，关键零部件的国产化率已经突破90%，并实现了定型与规模化生产，从而填补了国内市场的空白。截至目前，多台设备已在国内一线逻辑与存储芯片生产线中稳定运行，累计支持流片超过千万片，设备的有效运行率超过92%。
SMEE自2002年成立以来，作为国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，已成为我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体。公司业务涵盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售及全流程技术服务。SMEE始终关注产业技术前沿，致力于自主创新与产业链协同发展，积极与上下游供应链及行业合作伙伴深度协作，共同推动开放良好的半导体产业生态的构建，为我国半导体产业的高质量升级提供强有力的装备支持。
综上所述，SMEE的新一代光刻机模型的展示不仅表明了我国在光刻装备领域的技术进步，也昭示了我国在全球半导体产业链中日益增强的竞争力。研究表明，持续的自主创新与产业协同将是推动半导体产业持续发展的关键因素。 球友会
